Mazurek, Piotr ; Daniluk, Andrzej ; Paprocki, Krzysztof
Gaj, Miron. Redakcja ; Wilk, Ireneusz. Redakcja
Optica Applicata, Vol. 32, 2002, nr 3, s. 389-395
Oficyna Wydawnicza Politechniki Wrocławskiej
<sygn. PWr A3481II> ; kliknij tutaj, żeby przejść ; kliknij tutaj, żeby przejść
Optica Applicata ; Optica Applicata, Vol. 32, 2002 ; Optica Applicata, Vol. 32, 2002, nr 3 ; Politechnika Wrocławska. Wydział Podstawowych Problemów Techniki
Wszystkie prawa zastrzeżone (Copyright)
Dla wszystkich w zakresie dozwolonego użytku
16 sty 2019
4 kwi 2018
67
66
https://www.dbc.wroc.pl/publication/44848
Nazwa wydania | Data |
---|---|
Forming the high quality CoSi2 by solid phase epitaxy | 16 sty 2019 |
Mazurek, Piotr Jałochowski, Mieczysław Gaj, Miron. Redakcja Wilk, Ireneusz. Redakcja
Szukalski, Jan Gaj, Miron. Redakcja
Paczóski, Jan Klamer, Bogna Gaj, Miron. Redakcja
Jasny, Jan Płocharski, Stanislaw Gaj, Miron. Redakcja
Bilewicz, Zygmunt Gaj, Miron. Redakcja
Bogdanienko-Jakubicz, Anna Hałaciński, Bogumił Gaj, Miron. Redakcja
Plokarz, Halina Ratajczyk, Florian Lisowska, Barbara Gaj, Miron. Redakcja