Mazurek, Piotr ; Daniluk, Andrzej ; Paprocki, Krzysztof
Gaj, Miron. Redakcja ; Wilk, Ireneusz. Redakcja
Optica Applicata, Vol. 32, 2002, nr 3, s. 389-395
Oficyna Wydawnicza Politechniki Wrocławskiej
<sygn. PWr A3481II> ; click here to follow the link ; click here to follow the link
Optica Applicata ; Optica Applicata, Vol. 32, 2002 ; Optica Applicata, Vol. 32, 2002, nr 3 ; Politechnika Wrocławska. Wydział Podstawowych Problemów Techniki
Wszystkie prawa zastrzeżone (Copyright)
Dla wszystkich w zakresie dozwolonego użytku
Jan 16, 2019
Apr 4, 2018
61
60
https://www.dbc.wroc.pl/publication/44848
Edition name | Date |
---|---|
Forming the high quality CoSi2 by solid phase epitaxy | Jan 16, 2019 |
Mazurek, Piotr Jałochowski, Mieczysław Gaj, Miron. Redakcja Wilk, Ireneusz. Redakcja
Bohidar, Himadri B. Gaj, Kazimierz. Redakcja
Dobierzewska-Mozrzymas, Ewa Peisert, J. Biegański, P. Gaj, Kazimierz. Redakcja
Kurzynowski, P. Gaj, Kazimierz. Redakcja
Dubik, A. Owsik, J. Sarzyński, A. Gaj, Kazimierz. Redakcja
Topulos, G. Stacewicz, T. Gaj, Kazimierz. Redakcja
Kilig, A. Snakowski, J. Więcek, Tomasz Gaj, Kazimierz. Redakcja