Zubel, Irena ; Kramkowska, Małgorzata ; Ninierza, Tomasz
Gaj, Miron. Redakcja ; Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Optica Applicata, Vol. 39, 2009, nr 4, s. 749-759
Oficyna Wydawnicza Politechniki Wrocławskiej
<sygn. PWr A3481II> ; kliknij tutaj, żeby przejść ; kliknij tutaj, żeby przejść
Optica Applicata ; Optica Applicata, Vol. 39, 2009 ; Optica Applicata, Vol. 39, 2009, nr 4 ; Politechnika Wrocławska. Wydział Podstawowych Problemów Techniki
Wszystkie prawa zastrzeżone (Copyright)
Dla wszystkich w zakresie dozwolonego użytku
12 mar 2019
12 mar 2019
64
https://www.dbc.wroc.pl/publication/110838
| Nazwa wydania | Data |
|---|---|
| Methods of silicon surface structurization for the purpose of the deposition of III-V epitaxial layers | 12 mar 2019 |
Zubel, Irena Rola, Krzysztof Gaj, Miron. Redakcja Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Romanowski, Andrzej Gaj, Miron. Redakcja
Dobierzewska-Mozrzymas, Ewa Gaj, Miron. Redakcja
Marcinów, Tadeusz Wesołowska, Cecylia Wiktorczyk, Tadeusz Gaj, Miron. Redakcja
Rattan, R. Gupta, A. K. Singh, K. Gaj, Miron. Redakcja
Kaczmarek, Franciszek Mietlarek, Andrzej Gaj, Miron. Redakcja
Bissinger, Janusz Raczyński, Krzysztof Gaj, Miron. Redakcja
Pawlikowski, Janusz Marek Majchrowska, Ewa Kochan, Bogdan Gaj, Miron. Redakcja