Zubel, Irena ; Kramkowska, Małgorzata ; Ninierza, Tomasz
Gaj, Miron. Redakcja ; Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Optica Applicata, Vol. 39, 2009, nr 4, s. 749-759
Oficyna Wydawnicza Politechniki Wrocławskiej
<sygn. PWr A3481II> ; click here to follow the link ; click here to follow the link
Optica Applicata ; Optica Applicata, Vol. 39, 2009 ; Optica Applicata, Vol. 39, 2009, nr 4 ; Politechnika Wrocławska. Wydział Podstawowych Problemów Techniki
Wszystkie prawa zastrzeżone (Copyright)
Dla wszystkich w zakresie dozwolonego użytku
Mar 12, 2019
Mar 12, 2019
27
https://www.dbc.wroc.pl/publication/110838
Edition name | Date |
---|---|
Methods of silicon surface structurization for the purpose of the deposition of III-V epitaxial layers | Mar 12, 2019 |
Zubel, Irena Rola, Krzysztof Gaj, Miron. Redakcja Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Jagoszewski, E. Gaj, Miron. Redakcja Wilk, Ireneusz. Redakcja
Stádník, B. Jirásková, M. Gaj, Miron. Redakcja Wilk, Ireneusz. Redakcja
Woźnicka, G. Kruszewski, J. Gutkowski, M. T. Gaj, Miron. Redakcja Wilk, Ireneusz. Redakcja
Cojocaru, E. Gaj, Miron. Redakcja Wilk, Ireneusz. Redakcja
Cotos, J. M. Arias, J. Tobar, A. Gaj, Miron. Redakcja Wilk, Ireneusz. Redakcja
Dubik, B. Masajada, Jan Nowak, J. Zając, M. Gaj, Miron. Redakcja Wilk, Ireneusz. Redakcja
Para, W. Śmietański, W. Gaj, Miron. Redakcja Wilk, Ireneusz. Redakcja