Metrology of Mo/Si multilayer mirrors at 13.5 nm with the use of a laser-produced plasma extreme ultraviolet (EUV) source based on a gas puff target

Rakowski, R.; Bartnik, A.; Fiedorowicz, H.; Jarocki, R.; Kostecki, J.; Krzywiński, J.; Mikołajczyk, J.; Pina, L.; Ryc, L.; Szczurek, M.; Ticha, H.; Wachulak, P.

Metrology of Mo/Si multilayer mirrors at 13.5 nm with the use of a laser-produced plasma extreme ultraviolet (EUV) source based on a gas puff target

Tytuł: Metrology of Mo/Si multilayer mirrors at 13.5 nm with the use of a laser-produced plasma extreme ultraviolet (EUV) source based on a gas puff target

Kolekcje, do których przypisany jest obiekt:

Data ostatniej modyfikacji:

Apr 6, 2019

Data dodania obiektu:

Apr 6, 2019

Liczba wyświetleń treści obiektu:

230

Wszystkie dostępne wersje tego obiektu:

https://www.dbc.wroc.pl/publication/118373

Wyświetl opis w formacie RDF:

RDF

Wyświetl opis w formacie OAI-PMH:

OAI-PMH

Optica Applicata

Nazwa wydania	Data
Metrology of Mo/Si multilayer mirrors at 13.5 nm with the use of a laser-produced plasma extreme ultraviolet (EUV) source based on a gas puff target	Apr 6, 2019

Dolnośląska Biblioteka Cyfrowa udostępnia 109 264 obiektów cyfrowych

Obiekt

Tytuł: Metrology of Mo/Si multilayer mirrors at 13.5 nm with the use of a laser-produced plasma extreme ultraviolet (EUV) source based on a gas puff target

Creator:

Contributor:

Description:

Abstrakt:

Publisher:

Place of publication:

Date:

Resource Type:

Resource Identifier:

Source:

Language:

Relation:

Rights:

Access Rights:

Location:

Group publication title:

Temat i słowa kluczowe:

Kolekcje, do których przypisany jest obiekt:

Data ostatniej modyfikacji:

Data dodania obiektu:

Liczba wyświetleń treści obiektu:

Wszystkie dostępne wersje tego obiektu:

Wyświetl opis w formacie RDF:

Wyświetl opis w formacie OAI-PMH:

Obiekty Podobne

podobne w FBC

Cytowanie

Dane kontaktowe

Adres

Telefon

E-Mail

Odwiedź nas!