Yiyong, Liang ; Guoguang, Yang
Gaj, Miron. Redakcja ; Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Optica Applicata, Vol. 38, 2008, nr 2, s. 399-404
Oficyna Wydawnicza Politechniki Wrocławskiej
<sygn. PWr A3481II> ; click here to follow the link ; click here to follow the link
Optica Applicata ; Optica Applicata, Vol. 38, 2008 ; Optica Applicata, Vol. 38, 2008, nr 2 ; Politechnika Wrocławska. Wydział Podstawowych Problemów Techniki
Wszystkie prawa zastrzeżone (Copyright)
Dla wszystkich w zakresie dozwolonego użytku
Mar 22, 2019
Mar 22, 2019
368
https://www.dbc.wroc.pl/publication/114239
| Edition name | Date |
|---|---|
| Linewidth control by overexposure in laser lithography | Mar 22, 2019 |
Marczak, Jan Kusiński, Jan Major, Roman Rycyk, Antoni Sarzyński, Antoni Strzelec, Marek Czyż, Krzysztof Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Al-Hosiny, N. M. Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Hariri, A. Sarikhani, S. Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Liang, Yiyong Sun, Rong Gaj, Miron. Redakcja Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Goldys, E.M. Drozdowicz-Tomsia, K. Zhu, G. Yu, H. Jinjun, S. Motlan, M. Godlewski, M. Gaj, Miron. Redakcja Wilk, Ireneusz. Redakcja
Stefaniak, Tadeusz Gaj, Miron. Redakcja
Dubik, Bogusława Gaj, Miron. Redakcja