Wyszukiwanie zaawansowane ?

Obiekt

Linewidth control by overexposure in laser lithography
Pobierz

Tytuł: Linewidth control by overexposure in laser lithography

Autor:

Yiyong, Liang ; Guoguang, Yang

Współtwórca:

Gaj, Miron. Redakcja ; Urbańczyk, Wacław. Redakcja

Opis:

Optica Applicata, Vol. 38, 2008, nr 2, s. 399-404

Abstrakt:

In micro-electronic and micro-optical manufacturing, especially in the fabrication of linewidth-variation-sensitive devices, we sometimes care getting stable or precise linewidth rather than creating a thinner line. In laser lithography, the energy distribution of a focused laser spot is of Gaussian form, and the modification of an exposure dose or exposure threshold will cause linewidth variation. If the peak of energy distribution of a laser spot is a little higher than the exposure threshold of a photoresist layer, the produced linewidth may be small but unstable, and if the peak is considerably higher than the threshold, in other words in the case of overexposure, the linewidth will be relatively stable. The test was carried out in a polar laser lithographic system through a continuously changing exposure dose. The experimental result shows that the dose-induced linewidth variation velocity is different under a variant exposure dose. The higher the exposure dose, the lower the linewidth variation velocity.

Wydawca:

Oficyna Wydawnicza Politechniki Wrocławskiej

Miejsce wydania:

Wrocław

Data wydania:

2008

Typ zasobu:

artykuł

Identyfikator zasobu:

oai:dbc.wroc.pl:62879

Źródło:

<sygn. PWr A3481II> ; kliknij tutaj, żeby przejść ; kliknij tutaj, żeby przejść

Język:

eng

Powiązania:

Optica Applicata ; Optica Applicata, Vol. 38, 2008 ; Optica Applicata, Vol. 38, 2008, nr 2 ; Politechnika Wrocławska. Wydział Podstawowych Problemów Techniki

Prawa:

Wszystkie prawa zastrzeżone (Copyright)

Prawa dostępu:

Dla wszystkich w zakresie dozwolonego użytku

Lokalizacja oryginału:

Politechnika Wrocławska

Tytuł publikacji grupowej:

Optica Applicata

Temat i słowa kluczowe:

optyka linewidth overexposure laser lithography

Kolekcje, do których przypisany jest obiekt:

Data ostatniej modyfikacji:

22 mar 2019

Data dodania obiektu:

22 mar 2019

Liczba wyświetleń treści obiektu:

191

Wszystkie dostępne wersje tego obiektu:

https://www.dbc.wroc.pl/publication/114239

Wyświetl opis w formacie RDF:

RDF

Wyświetl opis w formacie OAI-PMH:

OAI-PMH

Nazwa wydania Data
Linewidth control by overexposure in laser lithography 22 mar 2019

Podobne

Optica Applicata
Optica Applicata

Laser interference patterning of diamond-like carbon layers for directed migration and growth of smooth muscle cell depositions

Marczak, Jan Kusiński, Jan Major, Roman Rycyk, Antoni Sarzyński, Antoni Strzelec, Marek Czyż, Krzysztof Urbańczyk, Wacław. Redakcja

2014
artykuł
Optica Applicata
Optica Applicata

Intrinsic linewidth calculation in an argon X-ray laser based on the model of geometrically dependent gain coefficient

Hariri, A. Sarikhani, S. Urbańczyk, Wacław. Redakcja

2017
artykuł
Optica Applicata
Optica Applicata

Non-contact detection for quantity-insufficiency in tablet counting machine

Liang, Yiyong Sun, Rong Gaj, Miron. Redakcja Urbańczyk, Wacław. Redakcja

2009
artykuł
Optica Applicata
Optica Applicata

Telephoto combination of holographic optical elements for polychromatic light

Jagoszewski, E. Gaj, Miron. Redakcja Wilk, Ireneusz. Redakcja

1993
artykuł
Optica Applicata
Optica Applicata

Passive protection capabilities of selected sunscreen materials against the carcinogenic UV-solar radiation

Stádník, B. Jirásková, M. Gaj, Miron. Redakcja Wilk, Ireneusz. Redakcja

1993
artykuł
Optica Applicata
Optica Applicata

Modelling of the thin-film structure for the purpose of ellipsometric measurements

Woźnicka, G. Kruszewski, J. Gutkowski, M. T. Gaj, Miron. Redakcja Wilk, Ireneusz. Redakcja

1993
artykuł
Optica Applicata
Optica Applicata

Analytical relations for thin-film external-reflection phase retarders

Cojocaru, E. Gaj, Miron. Redakcja Wilk, Ireneusz. Redakcja

1993
artykuł
Optica Applicata
Optica Applicata

Detection and analysis of oceanic thermal structures using NOAA AVHRR data

Cotos, J. M. Arias, J. Tobar, A. Gaj, Miron. Redakcja Wilk, Ireneusz. Redakcja

1993
artykuł
Więcej
×

Cytowanie

Styl cytowania:

Dane kontaktowe

Adres

Politechnika Wrocławska (Koordynator Konsorcjum DBC)
Biblioteka Politechniki Wrocławskiej
Wybrzeże Wyspiańskiego 27
50-370 Wrocław, Polska

Telefon

(+48) 71-320-38-30
(+48) 71-320-47-50

E-Mail

bc@pwr.edu.pl

Odwiedź nas!

https://biblioteka.pwr.edu.pl/

Ta strona wykorzystuje pliki 'cookies'. Więcej informacji