Jan 15, 2019
Dec 5, 2018
13
10
https://www.dbc.wroc.pl/publication/92406
Edition name | Date |
---|---|
Three-dimensional microstructures of photoresist formed by gradual gray-scale lithography approach | Jan 15, 2019 |
Zhang, Zhimin Gao, Yiqing Luo, Ningning Zhong, Kejun Liu, Zhihuai Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Luo, Ningning Gao, Yiqing Chen, Min Yu, Lixia Ye, Qing Gaj, Miron. Redakcja Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Pieńkowski, J. Michalski, W. Gaj, Kazimierz. Redakcja
Pluta, Maksymilian Żyrnicki, Wiesław Abramski, Krzysztof M. Brunné, Marek Gaj, Kazimierz. Redakcja
Dobierzewska-Mozrzymas, Ewa Gaj, Kazimierz. Redakcja
Surażyński, Lech Szustakowski, Mieczysław Gaj, Kazimierz. Redakcja
Oleszkiewicz, J. Podgórny, M. Knapik, J. Kisiel, A. Gaj, Kazimierz. Redakcja
Oleszkiewicz, Ewa Gaj, Kazimierz. Redakcja