X-ray, AFM, UV–VIS–IR analysis of a-Si:H/μc-Si:H supperlattice structure
Tytuł publikacji grupowej: Autor:Kołodziej, Andrzej ; Baranowski, Witold ; Kusior, Edward ; Kanak, Jarosław
Współtwórca:Gaj, Miron. Redakcja ; Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Temat i słowa kluczowe:optyka ; X-ray ; atomic force microscopy (AFM) ; UV–VIS–IR analysis ; nc-Si:H multilayer structure
Opis:Optica Applicata, Vol. 41, 2011, Nr 2, s. 449-454
Wydawca:Oficyna Wydawnicza Politechniki Wrocławskiej
Miejsce wydania: Data wydania: Typ zasobu: Format: Źródło:<sygn. PWr A3481II> ; kliknij tutaj, żeby przejść ; kliknij tutaj, żeby przejść
Język: Powiązania:Optica Applicata ; Optica Applicata, Vol. 41, 2011 ; Optica Applicata, Vol. 41, 2011, Nr 2 ; Politechnika Wrocławska. Wydział Podstawowych Problemów Techniki
Prawa:Wszystkie prawa zastrzeżone (Copyright)
Prawa dostępu:Dla wszystkich w zakresie dozwolonego użytku
Lokalizacja oryginału: