Cui, Li ; Liu, Yi ; Yu, Mei ; Jiang, Gangyi ; Fan, Shengli ; Wang, Yigang
Optica Applicata, Vol. 45, 2015, nr 2, s. 205-214
Oficyna Wydawnicza Politechniki Wrocławskiej
doi:10.5277/oa150207 ; oai:dbc.wroc.pl:37644
<sygn. PWr A3481II> ; click here to follow the link ; click here to follow the link
Optica Applicata ; Optica Applicata, Vol. 45, 2015, nr 2 ; Politechnika Wrocławska. Wydział Podstawowych Problemów Techniki
Wszystkie prawa zastrzeżone (Copyright)
Dla wszystkich w zakresie dozwolonego użytku
Jan 16, 2019
Oct 16, 2017
39
36
https://www.dbc.wroc.pl/publication/41662
Edition name | Date |
---|---|
A super depth of field height measurement based on local disparity | Jan 16, 2019 |
Liu, Yi Yu, Mei Cui, Li Jiang, Gangyi Wang, Yigang Fan, Shengli Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Fan, Shengli Yu, Mei Jiang, Gangyi Wang, Yigang Wang, Wei Li, Wenda Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Huang, Juezhen Ge, Peng Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Czaińska, Monika Przekoracka-Krawczyk, Anna Naskręcki, Ryszard van der Lubbe, Rob Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Dębińska, Emilia Styszyński, Andrzej Naskręcki, Ryszard Gaj, Miron. Redakcja Wilk, Ireneusz. Redakcja
Brenk-Krakowska, Alicja Szady, Milena Naskręcki, Ryszard
Byeong-mook Chung Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Qin, Cui Jiang, Yu Zhen, Li Urbańczyk, Wacław. Redakcja