Tytuł:

On the microstructure of TiHfOx thin films

Tytuł publikacji grupowej:

Optica Applicata

Autor:

Domaradzki, Jarosław ; Borkowska, Agnieszka ; Kaczmarek, Danuta ; Prociów, Eugeniusz L. ; Wasilewski, Radosław ; Ciszewski, Antoni

Współtwórca:

Gaj, Miron. Redakcja ; Wilk, Ireneusz. Redakcja

Temat i słowa kluczowe:

optyka ; multicomponent oxide ; thin film ; magnetron sputtering ; hot target

Opis:

Optica Applicata, Vol. 35, 2005, nr 3, s. 431-435

Abstrakt:

Transition metal oxides, whose optical band gap might be modified by doping or manufacturing using two (or more) oxides with different band gaps, are good candidates for host matrices in luminescent devices. This paper presents structural properties of TiHfOx thin films and analysis of dependence of their optical properties on thin film structure. In order to examine the microstructure of manufactured thin films the X-ray diffraction (XRD) and atomic force microscopy (AFM) were applied. The optical properties of manufactured thin films were investigated by optical transmission method in the spectral range from 200 to 1400 nm.

Wydawca:

Oficyna Wydawnicza Politechniki Wrocławskiej

Miejsce wydania:

Wrocław

Data wydania:

2005

Typ zasobu:

artykuł

Źródło:

<sygn. PWr A3481II> ; kliknij tutaj, żeby przejść ; kliknij tutaj, żeby przejść

Język:

eng

Powiązania:

Optica Applicata ; Optica Applicata, Vol. 35, 2005 ; Optica Applicata, Vol. 35, 2005, nr 3 ; Politechnika Wrocławska. Wydział Podstawowych Problemów Techniki

Prawa:

Wszystkie prawa zastrzeżone (Copyright)

Prawa dostępu:

Dla wszystkich w zakresie dozwolonego użytku

Lokalizacja oryginału:

Politechnika Wrocławska