Obiekt

Tytuł: Thermal model of nitride edge-emitting laser diodes

Autor:

Kuc, Maciej ; Sarzała, Robert P.

Współtwórca:

Gaj, Miron. Redakcja ; Urbańczyk, Wacław. Redakcja

Opis:

Optica Applicata, Vol. 39, 2009, nr 4, s. 663-672

Abstrakt:

Nitride laser diodes (LDs), as compared with arsenide ones, are known to exhibit poor thermal properties, mostly because of a very intense heat generation within their volumes. Therefore, to enable their useful operation, they should be designed in a way enhancing efficiency of heat-flux extraction from their volumes. In the present paper, the finite-element approach has been used to compare heat-flux spreading mechanism in continuous-wave room-temperature threshold operated nitride laser diodes with four different mounting schemes. For the standard laser width of 300 μm, the maximal active-region temperature increase over the RT ranges from 33.3 K (for the best two-sided heat LD mounting with the diamond heat spreader on the p-side) to 50.0 K (for the n-side LD mounting). As expected, laser diodes attached to their heat sinks on their p-side exhibit much more efficient heat-flux extraction than those attached on their n-type substrate. Even more efficient extraction takes place for the two-sided laser mounting. Besides, an application of the diamond heat spreader considerably enhances the above efficiency disregarding the place of its application. Further improvements may be expected in new optimised nitride laser devices designed in a way enhancing both heat-flux flow through areas of high-thermal-conductivity materials (diamond, copper, but also binary nitride compounds) and a reduction of heat-flux paths through layers of low-thermal-conductivity ternary and quaternary nitride compounds.

Wydawca:

Oficyna Wydawnicza Politechniki Wrocławskiej

Miejsce wydania:

Wrocław

Data wydania:

2009

Typ zasobu:

artykuł

Identyfikator zasobu:

oai:dbc.wroc.pl:62103

Źródło:

<sygn. PWr A3481II> ; kliknij tutaj, żeby przejść ; kliknij tutaj, żeby przejść

Język:

eng

Powiązania:

Optica Applicata ; Optica Applicata, Vol. 39, 2009 ; Optica Applicata, Vol. 39, 2009, nr 4 ; Politechnika Wrocławska. Wydział Podstawowych Problemów Techniki

Prawa:

Wszystkie prawa zastrzeżone (Copyright)

Prawa dostępu:

Dla wszystkich w zakresie dozwolonego użytku

Lokalizacja oryginału:

Politechnika Wrocławska

Tytuł publikacji grupowej:

Optica Applicata

Kolekcje, do których przypisany jest obiekt:

Data ostatniej modyfikacji:

12 mar 2019

Data dodania obiektu:

12 mar 2019

Liczba wyświetleń treści obiektu:

31

Wszystkie dostępne wersje tego obiektu:

https://www.dbc.wroc.pl/publication/110757

Wyświetl opis w formacie RDF:

RDF

Wyświetl opis w formacie OAI-PMH:

OAI-PMH

Podobne

×

Cytowanie

Styl cytowania:

Ta strona wykorzystuje pliki 'cookies'. Więcej informacji