Influence of high Al fraction on reactive ion etching of AlGaN/GaN heterostructures - Gryglewicz, Jacek; Stafiniak, Andrzej; Wośko, Mateusz; Prażmowska, Joanna; Paszkiewicz, Bogdan (Oficyna Wydawnicza Politechniki Wrocławskiej, 2013)
Optica Applicata, Vol. 43, 2013, nr 1, s. 27-33
Keywords: optyka; reactive ione etching; HEMT; AlGaN/GaN heterostructure