@misc{Indykiewicz_Kornelia_Improvement_2016,
 author={Indykiewicz, Kornelia and Paszkiewicz, Regina and Paszkiewicz, Bogdan},
 contributor={Urbańczyk, Wacław. Redakcja},
 identifier={DOI: 10.5277/oa160209},
 year={2016},
 rights={Wszystkie prawa zastrzeżone (Copyright)},
 publisher={Oficyna Wydawnicza Politechniki Wrocławskiej},
 description={Optica Applicata, Vol. 46, 2016, nr 2, s. 249-254},
 language={eng},
 title={Improvement of the electron beam lithography contact pads fabrication process},
 type={artykuł},
 keywords={optyka, electron beam lithography (EBL), exposition of big areas, exposition time optimization},
}