@misc{Indykiewicz_Kornelia_Exposition_2019,
 author={Indykiewicz, Kornelia and Paszkiewicz, Bogdan and Paszkiewicz, Regina},
 contributor={Urbańczyk, Wacław. Redakcja},
 identifier={DOI: 10.5277/oa190114},
 year={2019},
 rights={Wszystkie prawa zastrzeżone (Copyright)},
 publisher={Oficyna Wydawnicza Politechniki Wrocławskiej},
 description={Optica Applicata, Vol. 49, 2019, nr 1, s. 161-166},
 language={eng},
 title={Exposition time analysis of AlGaN/GaN HEMT fabrication by electron beam lithography},
 type={artykuł},
 keywords={optyka, electron beam lithography (EBL), device fabrication, exposition time reduction},
}